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为满足科研人员对样品的观测需求，原位芯片采用先进的微电子工艺，设计并制造了专门用于同步辐射线站及扫描电子显微镜（SEM）的标准氮化硅膜窗格。原位芯片氮化硅膜窗格具有高洁净度，高X-射线透射性，低应力，高强度且膜厚均匀一致的特性，适用于高温（～1000℃）实验以及不同压力环境的测试。目前我们的产品已被全球范围内的科研人员广泛认可且用于其生物、材料、物理、化学等方面的研究。
100级洁净环境
严格选用硅衬底材料
先进的工艺水平
薄膜应力<250Mpa
薄膜最薄可至10nm
窗口大小可至2cm
粗糙度低于0.5nm
均匀性优于5%
耐酸（氢氟酸除外），耐碱，耐有机溶剂
纳米材料，半导体材料，光学晶体材料，功能薄膜材料
胶体，气凝胶，有机材料和纳米颗粒的表征实验
含碳样品分析（光阻剂，聚合物，食品，油品，燃料等）
作为生物、细胞载体
此款窗格提供三种不同外框尺寸（5mm，7.5mm，10mm）以供选择，硅衬底厚度均为200µm。